پاورپوینت انواع روش های لایه نشانی

فرمت فایل: ppt

تعداد اسلاید: 16 اسلاید

قابلیت ویرایش: دارد

تصویری از خود فایل رو میتونید مشاهده کنید.

قسمتی از متن این پاورپوینت که به صورت تصادفی انتخاب شده:

لایه نشانی به روش  cvd

CVD

این روش در فاز بخار انجام می شود و در طیف وسیعی از روش های تولید فیلم نازک و پودرها را در برمی گیرد.

اصول کار CVD به این صورت است که پیش ماده به محفظه واکنش وارد می شود و سپس به سمت زیرلایه حرکت می کند، در این جا انرژی لازم باعث رسوب می شود. در این مرحله محصولات فرعی فرار تشکیل می شود و از زیرلایه واجذب شده و از محفظه خارج می شود.

کندوپاش (sputtering)

نوعی از لایه نشانی از فاز بخار اسپاترینگ یا كندوپاش است.

اسپاترینگ كه در یك محفظه خلاء در فشار جزیی از گاز

بی اثر(مثل آرگون) و با اعمال یك ولتاژ بالا صورت می گیرد،

از دو الكترود كاتد و آند استفاده می كند. ابتدا این الكترود ها

تحت یك اختلاف پتانسیل بالا قرار گرفته و سپس گاز بی اثر

در بین این الكترود ها یونیزه شده و یون های مثبت گاز به

سمت هدف شتاب گرفته و با بمباران هدف و كندن ماده

هدف، لایه های نازكی بر روی بستر(زیر لایه) تهیه می کنند.

رسوب دهی لیزری پالسی

رسوب نشانی لیزر پالسی PLD فرایندی است که شامل

رسوب نشانی مواد جدا شده از سطح، توسط لیزر بر روی

زیرلایه می باشد.

فرایند اصلی شامل سه مرحله است:

1- جدا کردن مواد از سطح ماده هدف توسط لیزر به وسیله

پالس های لیزری متناوب و پر قدرت.

2- دور کردن سریع مواد یونیزه شده از ماده هدف.

3- رسوب نشانی و رشد مواد تبخیر شده بر روی زیرلایه

گرم شده.

لایه نشانی به روش cvd

سل ژل

به طور کلی فرآیند سل ژل عبارت است از انتقال سیستمی از یک فاز “سل” مایع به یک فاز “ژل” جامد. با کمک فرآیند سل ژل میتوان مواد سرامیکی یا شیشه اي را در گستره اي از اشکال مختلف (مانند پودرهاي فوق ریز یا کروي، روکش هاي فیلم نازك، الیاف سرامیکی، غشاهاي معدنی میکروحفره اي، سرامیک ها و شیشه هاي یکپارچه، و مواد آئروژل به شدت متخلخل) ساخت.